[发明专利]一种太阳能电池的选择性掺杂方法无效
申请号: | 201310111615.7 | 申请日: | 2013-04-01 |
公开(公告)号: | CN103165760A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 王强;花国然;朱海峰;姚滢;邓洁 | 申请(专利权)人: | 南通大学 |
主分类号: | H01L31/20 | 分类号: | H01L31/20 |
代理公司: | 南京同泽专利事务所(特殊普通合伙) 32245 | 代理人: | 石敏 |
地址: | 226019 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种太阳能电池的选择性掺杂方法,步骤如下:在硅片上表面淀积磷硅玻璃;将淀积后的硅片进行高温扩散,使磷元素扩散入硅片,形成PN结;除去硅片上表面顶电极区以外的磷硅玻璃;在硅片上表面淀积本征非晶硅层;将硅片置于无氧环境中进行高温扩散,使非硅片顶电极区的磷元素扩散入非晶硅层,顶电极区磷硅玻璃中的磷元素进一步向顶电极区扩散;去除硅片表面的非晶硅层和磷硅玻璃,完成太阳能电池的逆扩散选择性掺杂。本发明采用逆扩散的方法,通过非晶硅吸收非顶电极区的杂质,使非顶电极区的掺杂浓度降低,同时顶电极区进行了二次掺杂,导致顶电极区与非顶电极区的掺杂浓度差进一步增大,提高了选择性掺杂的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 太阳能电池 选择性 掺杂 方法 | ||
【主权项】:
一种太阳能电池的选择性掺杂方法,包括如下步骤:第1步、使用磁控溅射的方法在硅片上表面淀积一层厚度约为0.05微米的含有掺杂元素的二氧化硅薄膜;第2步、将淀积后的硅片进行高温扩散,使二氧化硅薄膜中的掺杂元素扩散入硅片,形成PN结;第3步、除去硅片上表面顶电极区以外的氧化层;第4步、在硅片上表面淀积本征非晶硅层;第5步、将硅片置于无氧环境中进行高温扩散,使硅片非顶电极区的掺杂元素被扩散入非晶硅层,降低硅片非顶电极区掺杂元素浓度,实现掺杂元素的逆向扩散;顶电极区二氧化硅薄膜中的掺杂元素进一步向顶电极区扩散,实现顶电极区的重掺杂;第6步、采用浓硝酸和氢氟酸的混合溶液去除硅片表面的非晶硅层和二氧化硅,完成太阳能电池的逆扩散选择性掺杂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南通大学,未经南通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310111615.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的