[发明专利]一种齿科修复用低收缩率纳米复合树脂及其制备方法有效
申请号: | 201310113181.4 | 申请日: | 2013-04-02 |
公开(公告)号: | CN103211712A | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | 朱美芳;王瑞莉;江晓泽;孙宾;刘丰维;余淼淼 | 申请(专利权)人: | 东华大学 |
主分类号: | A61K6/093 | 分类号: | A61K6/093;A61K6/027 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 翁若莹 |
地址: | 201620 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种齿科修复用低收缩率纳米复合树脂及其制备方法。所述的复合树脂包括有机基体、引发剂体系及无机填料,其特征在于,还包括低聚倍半硅氧烷纳米粒子,各组分的质量含量分别为:有机基体18-29%、引发剂体系1-2%、无机填料59-78%、低聚倍半硅氧烷纳米粒子2-20%。制备方法为:将各组分共混均匀,得到未固化的纳米复合树脂糊;然后真空抽除树脂糊状材料中的气泡;最后放入模具中经可见光固化后即可得到齿科修复用低收缩率纳米复合树脂。POSS的加入使复合树脂的聚合收缩率明显降低,同时提高了材料的抛光保持性及耐磨持久性能。本发明原料价格便宜,设备要求低,制备工艺简单、易操作,适合于工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 齿科 修复 收缩 纳米 复合 树脂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种齿科修复用低收缩率纳米复合树脂,包括有机基体、引发剂体系及硅烷化无机填料,其特征在于,还包括低聚倍半硅氧烷纳米粒子,各组分的质量含量分别为:有机基体18‑29%、引发剂体系1‑2%、硅烷化无机填料59‑78%、低聚倍半硅氧烷纳米粒子2‑20%。
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