[发明专利]利用石墨烯修饰高电子迁移率晶体管测量DNA杂化方法有效

专利信息
申请号: 201310113326.0 申请日: 2013-04-02
公开(公告)号: CN104101626A 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 张跃;章潇慧;廖庆亮;刘硕;王钦玉;张铮 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: G01N27/26 分类号: G01N27/26
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 皋吉甫
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及石墨烯的转移技术和DNA的固定技术,利用石墨烯修饰高电子迁移率晶体管(HEMT)并且固定探针DNA,进行DNA杂化的测量,实现快速、灵敏及新颖电流响应模式的DNA杂化检测的利用石墨烯修饰高电子迁移率晶体管测量DNA杂化的方法,该方法首先利用分子束外延法构建HEMT;随后利用石墨烯将探针DNA固定到HEMT栅极表面;最后滴加目标DNA进行杂化测量获得响应电流。利用本方法可实现对实际样品的DNA杂化检测。本方法简化了探针DNA固定到器件表面的过程,舍弃了复杂的化学过程。本方法中获得了新颖的DNA杂化识别模式。
搜索关键词: 利用 石墨 修饰 电子 迁移率 晶体管 测量 dna 方法
【主权项】:
 利用石墨烯修饰高电子迁移率晶体管测量DNA杂化方法,其特征在于,具体包括以下步骤:首先,HEMT的构建:在温度580℃下,分子束外延沉积GaAs层1μm,Al0.26 Ga0.7As层3nm,Si掺杂AlGaAs层22nm,及Si掺杂GaAs帽层5nm;沉积Ni/AuGe/Ni/Au作为HEMT的源极和漏极,其中,Ni: 50 nm, AuGe: 204 nm, Ni: 10 nm, Au: 50 nm;利用等离子体增强化学气相沉积法将SiO2绝缘层沉积到器件表面;用石蜡对HEMT进行封装,仅保持栅极暴露在外;其次,探针DNA固定到HEMT栅极:将探针DNA溶液与浓度为0.1‑10 mg/mL石墨烯乙醇分散液,进行混合,其混合比例为DNA溶液体积:石墨烯分散液体积为1:6‑1:3,在温度为18‑22℃下将混合液孵化30‑50分钟,随后,将适量孵化液滴在步骤1制备得到的HEMT栅极上,在温度为0‑4℃下进行孵化和干燥、备用;其中,探针DNA溶液由磷酸盐缓冲液配置,浓度在0.01‑10μM;最后,石墨烯修饰HEMT对DNA杂化进行检测:将不同浓度的目标DNA滴加到已经固定了探针DNA的HEMT栅极,测量HEMT源极和漏极之间的电流变化,获得DNA杂化电流。
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