[发明专利]一种进气装置、反应腔室及等离子体加工设备有效
申请号: | 201310121123.6 | 申请日: | 2013-04-09 |
公开(公告)号: | CN104099583A | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 杨斌;郑友山 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;张天舒 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种进气装置、反应腔室及等离子体加工设备,其用于根据工艺需求向反应腔室内部的不同区域输送工艺气体,且包括中央进气口、扩散板和第一驱动源,其中,中央进气口的下端与反应腔室的内部连通;扩散板与中央进气口的下端形成水平进气口,且扩散板包括中心柱和至少两个扇叶,至少两个扇叶环绕中心柱间隔设置,且与中心柱可上下摆动地连接;第一驱动源用于单独和/或同时驱动至少两个扇叶向上或向下摆动,以改变扇叶所在平面与中央进气口之间的角度。本发明提供的进气装置不仅可以使不同的工艺均能够获得理想的气体扩散效果,而且还可以使自水平进气口喷出的工艺气体朝各个方向扩散的扩散半径趋于均匀。 | ||
搜索关键词: | 一种 装置 反应 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】:
一种进气装置,用于根据工艺需求,向反应腔室内部的不同区域输送工艺气体,其特征在于,所述进气装置包括中央进气口、扩散板和第一驱动源,其中所述中央进气口的下端与所述反应腔室的内部连通;所述扩散板与所述中央进气口的下端形成水平进气口,且所述扩散板包括中心柱和至少两个扇叶,所述至少两个扇叶环绕所述中心柱间隔设置,且与所述中心柱可上下摆动地连接;所述第一驱动源用于单独和/或同时驱动所述至少两个扇叶向上或向下摆动,以改变所述扇叶所在平面与所述中央进气口之间的角度。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的