[发明专利]一种进气装置及等离子体加工设备有效
申请号: | 201310122615.7 | 申请日: | 2013-04-10 |
公开(公告)号: | CN104103483A | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 南建辉;王宝全;苏晓峰;宋巧丽 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;张天舒 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种进气装置及等离子体加工设备,包括装置本体,在装置本体内形成有第一通道、第二通道和单向通道,其中第一通道分别与清洗气体源和反应腔室的内部连通,用以将由清洗气体输送至反应腔室内;第二通道的进气端与工艺气体源连通,第二通道的出气端经由单向通道与第一通道连通,第二通道用于将工艺气体输送至第一通道内,并经由第一通道流入反应腔室内;并且单向通道被设置为仅能够自第二通道朝向第一通道的单一方向输送工艺气体。本发明提供的进气装置可以防止清洗气体流入用于传输工艺气体的通道,从而可以减少甚至避免发生工艺气体因与清洗气体相互混合而被污染的问题,进而可以提高等离子体加工设备的工艺质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 装置 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】:
一种进气装置,其用于在进行加工工艺时单独将由工艺气体源提供的工艺气体输送至反应腔室内,以及在进行清洗工艺时单独将由清洗气体源提供的清洗气体输送至反应腔室内,其特征在于,包括装置本体,在所述装置本体内形成有第一通道、第二通道和单向通道,其中所述第一通道分别与所述清洗气体源和所述反应腔室的内部连通,用以将由所述清洗气体源提供的清洗气体输送至所述反应腔室内;所述第二通道的进气端与所述工艺气体源连通,所述第二通道的出气端经由所述单向通道与所述第一通道连通,所述第二通道用于将所述工艺气体输送至所述第一通道内,并经由所述第一通道流入所述反应腔室内;并且所述单向通道被设置为仅能够自所述第二通道朝向所述第一通道的单一方向输送所述工艺气体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司,未经北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310122615.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:气体供应装置及等离子体处理装置
- 下一篇:一种模块式永磁断路器