[发明专利]一种电子轰击离子源机构

摘要

本发明涉及一种电子轰击离子源机构，包括进样组件、电离室、聚焦极片组件及出口狭缝组件，进样组件固定连接在电离室上，电离室、聚焦极片组件及出口狭缝组件依次设置。与现有技术相比，本发明能够对样品离子进行5000V的高压加速聚焦，该离子源利用极片聚焦系统实现离子源的光学聚焦，可以得到用于高分辨质谱的样品离子束。同时，该离子源可实现离子源狭缝的调节，对于不同分辨率和不同灵敏度的质谱分析条件下都适用。离子源光学系统依据经过精确计算和仿真分析的可靠数据。

主权项

一种电子轰击离子源机构，其特征在于，该机构包括进样组件、电离室、聚焦极片组件及出口狭缝组件，所述的进样组件固定连接在电离室上，所述的电离室、聚焦极片组件及出口狭缝组件依次设置：进样组件：包括两根进样导管、设置在进样导管间的弹簧及将进样导管固定在电离室上的进样管固定片；电离室：包括电离盒、推出极、阴极组件及电子接收机组件，所述的推出极安装在电离盒上，所述的阴极组件及电子接收机组件与进样组件连接；聚焦极片组件：由依次排列设置的拉出极、屏蔽片、两块聚焦透镜、X聚焦极、Y聚焦极构成；出口狭缝组件：包括出口狭缝片、出口狭缝座、狭缝固定座、限孔狭缝及总离子流接收极，所述的出口狭缝座套设在狭缝固定座外，所述的出口狭缝片及限孔狭缝分别设置在出口狭缝座的两侧表面，所述的总离子流接收极设置在出口狭缝座朝向聚焦极片组件的一侧表面。