[发明专利]粒子线治疗系统

摘要

根据本发明，能够提供一种粒子线治疗系统，其在实施依次地变更从加速器射出的射束的能量的扫描照射方式时，能够抑制由于电磁铁的初始化动作而导致的治疗时间延长。照射控制装置（35）具备以下的方法，即按照各照射条件（能量条件）运算输送系统的偏向电磁铁（15、20A、20B、20C）的励磁电流设定值，与照射时序一致地设定适当的励磁电流值。更详细地说，照射控制装置（35）预先将与离子束的能量水平对应地决定的基准电流值存储在电流供给控制表（1）中，将与离子束的能量水平和能量的变更次数对应地决定的修正电流值存储在电流供给补偿值表（2、3）中，计算上述电磁铁的励磁电流值。

主权项

一种粒子线治疗系统，其具备：加速器，其将离子束加速到所设定的能量；照射装置，其向照射对象照射加速后的上述离子束；射束输送系统，其将从上述加速器射出的上述离子束输送到上述照射装置，该粒子线治疗系统的特征在于，具备：照射控制装置，其在上述加速器进行运转而使上述离子束的能量分级地增加、或分级地减少地进行变更的期间中，根据射出的上述离子束的能量、将上述能量分级地变更直到达到上述离子束的能量为止的次数，进行控制使设置在上述加速器或上述射束输送系统中的电磁铁的励磁电流值分级地增加、或分级地减少。