[发明专利]一种异质结电池的制备方法无效
申请号: | 201310125902.3 | 申请日: | 2013-04-11 |
公开(公告)号: | CN103227246A | 公开(公告)日: | 2013-07-31 |
发明(设计)人: | 牛新伟;郁操;丁澜;戎俊梅;刘石勇;王明华;胡金艳;韩玮智;朱永敏;张华;冯涛;金建波;仇展炜;杨立友 | 申请(专利权)人: | 浙江正泰太阳能科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/20 | 分类号: | H01L31/20 |
代理公司: | 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 | 代理人: | 冯谱 |
地址: | 310053 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种异质结电池的制备方法,包括如下步骤:在n型硅片的正面沉积第一非晶硅本征层,这里的n型硅片可以是单晶或是多晶硅片;在所述第一非晶硅本征层上沉积非晶硅p层;在所述非晶硅p层上沉积第一掺硼氧化锌薄膜;在所述硅片的背面形成背电极和铝背场;在所述硅片的正面形成正电极。另外,本发明还公开了一种双面异质结电池的制备方法。本发明采用掺硼氧化锌薄膜除替代ITO薄膜作为减反膜,由于掺硼氧化锌的特殊性质,特别是光陷作用,掺硼氧化锌可以起到良好的减反射作用,这样就省去了制绒的步骤,简化了制备工艺,由于多晶硅制绒更加具有挑战性,本发明对采用多晶硅硅片的异质结电池更加有意义。 | ||
搜索关键词: | 一种 异质结 电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种异质结电池的制备方法,其中,包括如下步骤:a)在n型硅片的正面沉积第一非晶硅本征层;b)在所述第一非晶硅本征层上沉积非晶硅p层;c)在所述非晶硅p层上沉积第一掺硼氧化锌薄膜;d)在所述n型硅片的背面形成背电极和铝背场;e)在所述n型硅片的正面形成正电极。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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