[发明专利]双金属吡啶薄膜催化剂及其制备和用途在审
申请号: | 201310131338.6 | 申请日: | 2013-04-12 |
公开(公告)号: | CN103212441A | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | 高水英;曹荣 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
主分类号: | B01J31/22 | 分类号: | B01J31/22;C07B35/02;C07C5/03;C07C15/073;C07C205/06;C07C201/12;C07C17/354;C07C25/02;C07C29/17;C07C33/025;C07C45/62;C07C49/213;C07C67/303 |
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摘要: | 本发明公开一种双金属吡啶薄膜(Pd/bpy/Pt/bpy)n催化剂的制备方法。金属源为K2PdCl4和K2PtCl4,bpy为4,4-联吡啶,采用层层自组装方法,在固体基片上制备交替沉积(Pd/bpy/Pt/bpy)n薄膜催化剂。该催化剂具有较高催化活性以及稳定性,在温和条件下实现对烯烃催化加氢反应,可多次重复使用。本方法具有工艺简单,成本低廉,操作方便,应用效果好等特点。 | ||
搜索关键词: | 双金属 吡啶 薄膜 催化剂 及其 制备 用途 | ||
【主权项】:
结构式为(Pd/bpy/Pt/bpy)n的复合薄膜,其中bpy为4,4‑联吡啶;其结构为层层自组装。
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