[发明专利]溅镀设备及溅镀方法在审

专利信息
申请号: 201310133001.9 申请日: 2013-04-17
公开(公告)号: CN104109835A 公开(公告)日: 2014-10-22
发明(设计)人: 许民庆;储培鸣 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 赵根喜;吕俊清
地址: 201500 上海市金山区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种溅镀设备及溅镀方法,溅镀设备包括:腔体;旋转靶材机构,设置在所述腔体中部,所述旋转靶材机构的相反两侧能够设置第一靶材和第二靶材;所述旋转靶材机构包括旋转轴,并能够绕着所述旋转轴旋转;以及密封机构,设置在所述旋转靶材机构的两侧,用于与所述旋转靶材机构和所述腔体耦合以将所述腔体隔离成两个密封的腔室,所述两个腔室用于在其中分别设置第一基板和第二基板,其中所述旋转靶材机构包括相对设置的第一靶材固定件和第二靶材固定件,用于固定所述第一靶材和第二靶材。本发明的溅镀设备和溅镀方法具有旋转靶材机构,因此能够在同一腔体中同时溅镀两种镀膜,实现了连续溅镀,提高溅镀效率。
搜索关键词: 设备 方法
【主权项】:
一种溅镀设备,其特征在于,包括:腔体(10);旋转靶材机构(20),设置在所述腔体(10)中部,所述旋转靶材机构(20)的相反两侧能够设置第一靶材(21a)和第二靶材(22a);所述旋转靶材机构(20)包括旋转轴(24),并能够绕着所述旋转轴(24)旋转;以及密封机构(30),设置在所述旋转靶材机构(20)的两侧,用于与所述旋转靶材机构(20)和所述腔体(10)耦合以将所述腔体(10)隔离成两个密封的腔室,所述两个腔室用于在其中分别设置第一基板(1)和第二基板(2),其中所述旋转靶材机构(20)包括相对设置的第一靶材固定件(21)和第二靶材固定件(22),用于固定所述第一靶材(21a)和第二靶材(22a)。
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