[发明专利]一种进气系统及等离子体加工设备在审
| 申请号： | 201310133353.4 | 申请日： | 2013-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN104112637A | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 聂淼 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种进气系统及等离子体加工设备，用于向反应腔室内输送工艺气体，其包括进气管路和进气通道，其中，进气通道的进气口与进气管路连通，进气通道的出气口与反应腔室的内部连通，工艺气体经由进气管路和进气通道流入反应腔室的内部，在进气通道的进气口与进气管路之间还设置有气体稳流组件，用以使流入进气通道的工艺气体的流动状态趋于层流状态。本发明提供的进气系统可以使流入进气通道的工艺气体的流动状态趋于层流状态，从而可以使流入反应腔室内的工艺气体趋于均匀，进而可以提高等离子体加工设备的工艺均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 系统 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】：
一种进气系统，用于向反应腔室内输送工艺气体，其包括进气管路和进气通道，其中，所述进气通道的进气口与所述进气管路连通，所述进气通道的出气口与所述反应腔室的内部连通，工艺气体经由所述进气管路和进气通道流入所述反应腔室的内部；其特征在于，在所述进气通道的进气口与所述进气管路之间还设置有气体稳流组件，用以使流入所述进气通道的工艺气体的流动状态趋于层流状态。
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