[发明专利]测距装置、测距方法和成像系统有效

专利信息
申请号: 201310134170.4 申请日: 2013-04-18
公开(公告)号: CN103379277A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 池本圣雄 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H04N5/232 分类号: H04N5/232;H04N5/335
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李颖
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及测距装置、测距方法和成像系统。该测距装置具有:包括用于获取第一图像和第二图像的像素组的成像单元,第一图像和第二图像是由通过成像光学系统的第一和第二光瞳区域的光束形成的;以及计算单元,被配置为通过用校正的第一和第二图像修正函数对第一和第二图像执行卷积积分创建第三和第四图像,并通过比较第三和第四图像计算到对象的距离,其中,通过使得基于与像素组的像素布置对应的第一图像修正函数和第二图像修正函数的采样点的数据计算的质心位置分别与最接近质心位置的采样点一致,形成校正的第一图像修正函数和第二图像修正函数;并且,以最接近质心位置的采样点为基准点,执行卷积积分。
搜索关键词: 测距 装置 方法 成像 系统
【主权项】:
一种测距装置,包括:成像光学系统,被布置为形成对象的图像;成像单元,包括被布置为获取第一图像和第二图像的像素组,所述第一图像和第二图像是由分别主要通过成像光学系统的出射光瞳的第一光瞳区域和第二光瞳区域的光束形成的;和计算单元,其中,所述计算单元被配置为:通过用校正的第一图像修正函数对第一图像执行卷积积分来创建第三图像,并且通过用校正的第二图像修正函数对第二图像执行卷积积分来创建第四图像,并且通过比较第三图像和第四图像来计算到对象的距离,其中,通过使各质心位置分别与最接近质心位置的采样点一致,形成校正的第一图像修正函数和第二图像修正函数,所述各质心位置是基于各第一图像修正函数和第二图像修正函数的采样点的数据而计算的,各第一图像修正函数和第二图像修正函数的采样点与像素组的像素布置对应,以及其中,以最接近质心位置的采样点为基准点,执行卷积积分。
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