[发明专利]双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液无效
申请号: | 201310134778.7 | 申请日: | 2013-04-18 |
公开(公告)号: | CN104109480A | 公开(公告)日: | 2014-10-22 |
发明(设计)人: | 高如山 | 申请(专利权)人: | 天津西美半导体材料有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C09G1/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300384 天津市华苑产业区海泰发*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及一种双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液,其特征在于:所述蓝宝石衬底抛光液是专门针对双面抛光机使用。该抛光液是一种含有二氧化硅、氧化剂、碱性组合物、表面活性剂及水的组合物。所述氧化剂可以氧化工件表面的金属杂质,从而防止抛光后的工件表面被金属污染,提高工件表面的抛光质量。所述表面活性剂为阴离子和非离子表面活性剂,该表面活性剂的加入可以使抛光液具有更低的表面张力、高流动性和渗透性,可以降低抛光中的摩擦阻力并取得更佳的润滑作用,且双面抛光机较单面抛光机抛光效率高,在提高抛光效率的同时有更佳抛光效果,并且可以降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 双面 抛光机 蓝宝石 衬底 抛光 | ||
【主权项】:
一种双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液,其特征在于:该抛光液专门针对双面抛光机使用,是一种含有氧化剂、阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂的抛光液,含有二氧化硅、碱性化合物、表面活性剂及水。二氧化硅是胶体二氧化硅、气相二氧化硅或者沉淀法二氧化硅。氧化剂为任何可溶于水介质中的氧化剂,且其氧化势大于被抛光工件内金属的氧化势,常用的有氯酸盐、高氯酸盐、亚氯酸盐、硝酸铁、过氧化物及过硫酸盐等。碱性化合物例如是氢氧化锂、氢氧化钾、氢氧化钠、氨水、乙二胺、三乙醇胺、氢氧化四甲基铵等有机碱类。阴离子表面活性剂是磺酸型表面活性剂、羧酸型表面活性剂及硫酸脂型表面活性剂中的一种,非离子表面活性剂是聚氧乙烯型非离子表面活性剂、多元醇脂肪酸酯型非离子表面活性剂、聚醚型非离子表面活性剂中的一种。
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