[发明专利]记录介质的制造方法和记录介质无效
申请号: | 201310136735.2 | 申请日: | 2013-04-19 |
公开(公告)号: | CN103377662A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 大川直树 | 申请(专利权)人: | 索尼公司;索尼信息技术股份有限公司 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84;G11B5/72 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种记录介质的制造方法和记录介质,该方法包括:制备该记录介质的基板;在该基板的第一面侧形成第一面记录层;在该第一面记录层上形成用于保护该第一面记录层的第一面保护层;形成第二面以构成该基板的第二面侧的层构造的全部或部分;对该第一面保护层的保护性能进行去活化;以及在该第一面保护层上形成第一面以构成第一面的层构造的全部或部分。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种记录介质的制造方法,包括:制备该记录介质的基板;在该基板的第一面侧形成第一面记录层;在该第一面记录层上形成用于保护该第一面记录层的第一面保护层;形成第二面,以构成该基板的第二面侧的层构造的全部或部分;对该第一面保护层的保护性能进行去活化;以及在该第一面保护层上形成第一面,以构成第一面的层构造的全部或部分。
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