[发明专利]用于制作磁瓦的溅射靶材有效
| 申请号： | 201310137367.3 | 申请日： | 2013-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN103233154A | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 徐建波;祁三文;张敏;张锋锐;张燕庆 | 申请（专利权）人： | 山西汇镪磁性材料制作有限公司 |
| 主分类号： | C22C28/00 | 分类号： | C22C28/00;C23C14/34 |
| 代理公司： | 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 | 代理人： | 朱源 |
| 地址： | 030006 *** | 国省代码： | 山西;14 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及制作磁瓦的辅助材料，具体为一种用于制作磁瓦的溅射靶材，解决了目前制作磁瓦时缺乏有效的辅助材料的问题。一种用于制作磁瓦的溅射靶材，是由Ⅰ类稀土材料和Ⅱ类金属材料构成的合金，所述Ⅰ类稀土材料由La、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho中的一种或几种以任意比例混合，占溅射靶材总重量的范围是：大于等于80%且小于100%；所述Ⅱ类金属材料由Ga、Al、Sn、Mg、Ca、Cu中的一种或几种以任意比例混合。所述溅射靶材呈颗粒状合金。本发明设计合理，能够更好地制备出磁力线辐射发散的磁瓦。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制作 溅射 | ||
【主权项】：
一种用于制作磁瓦的溅射靶材，其特征在于：是由Ⅰ类稀土材料和Ⅱ类金属材料构成的合金，所述Ⅰ类稀土材料由La、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho中的一种或几种以任意比例混合，占溅射靶材总重量的范围是：大于等于80%且小于100%；所述Ⅱ类金属材料由Ga、Al、Sn、Mg、Ca、Cu中的一种或几种以任意比例混合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山西汇镪磁性材料制作有限公司，未经山西汇镪磁性材料制作有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310137367.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：双作用活塞式液压缸
- 下一篇：八爪鱼式可调节撑圆器
