[发明专利]室温下水相半导体纳米晶的自分离方法无效

专利信息
申请号: 201310138270.4 申请日: 2013-04-22
公开(公告)号: CN103194237A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 张皓;周鼎;刘敏;潘洪兵;杨柏 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: C09K11/88 分类号: C09K11/88
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 张景林;刘喜生
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 室温下水相半导体纳米晶的自分离方法,属于半导体纳米晶制备技术领域。其是在容器中加入镉盐,然后用水溶解,再加入巯基小分子,离子型碲源或离子型硒源,再加入NaBH4,最后在反应体系中加入氨类化合物水溶液,稍微摇晃并在室温下放置3~5小时后,即在容器底部得到自分离下来的半导体纳米晶;反应体系中,镉盐的浓度为1.0×10-4~1.0×10-2mol/L,镉盐、离子型碲源或离子型硒源、巯基小分子、NaBH4、氨类化合物的摩尔比为1:0.1~0.2:1.5~2.4:3.3~10.5:176~20000。本发明具有良好的实验重复性,同时自分离下来的纳米晶保持了较高的荧光量子效率。本发明所述方法可适用于各种配体的半导体纳米晶的自分离过程。
搜索关键词: 室温 下水 半导体 纳米 分离 方法
【主权项】:
一种室温下水相半导体纳米晶的自分离方法,其特征在于:在容器中加入镉盐,然后用水溶解,再加入巯基小分子,离子型碲源或离子型硒源,再加入NaBH4,最后在反应体系中加入氨类化合物水溶液,稍微摇晃并在室温下放置3~5小时后,即在容器底部得到自分离下来的半导体纳米晶;反应体系中,镉盐的浓度为1.0×10‑4~1.0×10‑2mol/L,镉盐、离子型碲源或离子型硒源、巯基小分子、NaBH4、氨类化合物的摩尔比为1:0.1~0.2:1.5~2.4:3.3~10.5:176~20000。
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