[发明专利]流体喷射设备中的旁路流体循环

摘要

流体喷射设备包括流体歧管、耦合到流体歧管的基板、以及设置在流体歧管与基板之间的流体分配结构。流体歧管包括流体供应室和流体返回室。基板限定流动路径，所述流动路径包括用于接收流体的流动路径入口、用于喷射流体液滴的喷嘴和用于引导走未喷射流体的流动路径出口。流体分配结构包括流体供应通道，其包括流体地耦合到流体供应室的供应入口和流体地耦合到流动路径的供应出口。流体分配结构还包括流体旁路通道，其包括流体地耦合到流体供应室的旁路入口、流体地耦合到流体返回室的旁路出口、以及在旁路入口与旁路出口之间向流体旁路通道提供补充流动阻力的流动抑制器。流动抑制器包括收敛-发散式狭道区段。

主权项

一种流体喷射设备，包括：流体歧管，其包括流体供应室和流体返回室；基板，其耦合到所述流体歧管，所述基板限定流动路径，所述流动路径包括用于接收流体的流动路径入口、用于喷射流体液滴的喷嘴以及用于引导走未喷射流体的流动路径出口；以及流体分配结构，其设置在所述流体歧管与所述基板之间，所述流体分配结构包括：流体供应通道，其包括流体地耦合到所述流体供应室的供应入口和流体地耦合到所述流动路径的供应出口；以及流体旁路通道，其包括流体地耦合到所述流体供应室的旁路入口、流体地耦合到所述流体返回室的旁路出口、以及在所述旁路入口与所述旁路出口之间向所述流体旁路通道提供补充流动阻力的流动抑制器，所述流动抑制器包括收敛‑发散式狭道区段。