[发明专利]用于驱动磁控管的驱动机构及磁控溅射加工设备在审

专利信息
申请号: 201310145279.8 申请日: 2013-04-24
公开(公告)号: CN104120390A 公开(公告)日: 2014-10-29
发明(设计)人: 郭浩;杨玉杰 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;H01J37/32
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;张天舒
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供的用于驱动磁控管的驱动机构及磁控溅射加工设备,其包括旋转驱动源、传动轴和直线驱动源,其中,直线驱动源用于采用液压驱动的方式驱动磁控管沿垂直于传动轴的方向作直线往复运动;旋转驱动源的驱动轴借助传动轴与直线驱动源固定连接,用以在磁控管作直线往复运动的同时,驱动磁控管围绕所述传动轴作旋转运动。本发明提供的用于驱动磁控管的驱动机构,其不仅可以使磁控管的运行轨迹完全覆盖整个靶材,而且还可以使磁控管的运行轨迹的分布密度趋于均匀,此外,该驱动机构还能够适用于更多尺寸的靶材,从而可以扩大驱动机构的应用范围。
搜索关键词: 用于 驱动 磁控管 机构 磁控溅射 加工 设备
【主权项】:
一种用于驱动磁控管的驱动机构,其特征在于,所述驱动机构包括旋转驱动源、传动轴和直线驱动源,其中所述直线驱动源用于采用液压驱动的方式驱动所述磁控管沿垂直于所述传动轴的方向作直线往复运动;所述旋转驱动源的驱动轴借助所述传动轴与所述直线驱动源固定连接,用以在所述磁控管作直线往复运动的同时,驱动所述磁控管围绕所述传动轴作旋转运动。
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