[发明专利]一种光屏障玻璃的制备方法

摘要

本发明提供一种光屏障玻璃的制备方法，包括如下步骤：在玻璃基板上形成金属层；在金属层上涂覆第一光刻胶层，通过半透型掩模板对第一光刻胶层进行第一次曝光，然后对第一光刻胶层进行第一次显影处理；通过第一次刻蚀工艺去除金属层的部分区域；通过灰化工艺去除第一光刻胶层的部分厚度和部分区域；在暴露的玻璃基板上、暴露的金属层上、第一光刻胶层上和第一光刻胶层的侧壁形成绝缘层；采用光阻剥离的方法将第一光刻胶层、位于第一光刻胶层上的绝缘层以及第一光刻胶层侧壁的绝缘层去除，得到过孔；在过孔内、过孔的侧壁上和绝缘层上形成透明的像素电极图形。所述方法能够节省一道掩膜工艺，从而能够简化制备工艺，提高制备效率，降低制备成本。

主权项

一种光屏障玻璃的制备方法，其特征在于，该制备方法包括如下步骤：在玻璃基板上形成金属层；在所述金属层上涂覆第一光刻胶层，通过半透型掩模板对所述第一光刻胶层进行第一次曝光，然后对所述第一光刻胶层进行第一次显影处理，形成依次分别对应半透型掩模板的不透光区域、半透光区域和完全透光区域的第一光刻胶层完全保留区域、第一光刻胶层半保留区域和第一光刻胶层完全去除区域；通过第一次刻蚀工艺去除第一光刻胶层完全去除区域对应的金属层、以及第一光刻胶层半保留区域和第一光刻胶层完全保留区域对应的金属层的部分区域，暴露出玻璃基板的部分区域；通过灰化工艺去除第一次显影后的所述第一光刻胶层的部分厚度和部分区域，暴露出第一次刻蚀工艺后剩余的金属层的部分区域；在暴露的所述玻璃基板上、暴露的所述金属层上、灰化工艺后的所述第一光刻胶层上和灰化工艺后的所述第一光刻胶层的侧壁形成绝缘层；采用光阻剥离的方法将灰化工艺后的所述第一光刻胶层、位于灰化工艺后的所述第一光刻胶层上的所述绝缘层以及灰化工艺后的所述第一光刻胶层侧壁的所述绝缘层去除，得到位于所述金属层上的过孔，暴露出所述金属层的对应所述过孔的部分区域；在所述过孔内、所述过孔的侧壁上和所述绝缘层上形成透明的像素电极图形。