[发明专利]薄膜电极及其制法有效

专利信息
申请号: 201310146263.9 申请日: 2013-04-24
公开(公告)号: CN103310991A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 叶威廷;蔡安益 申请(专利权)人: 长兴化学工业股份有限公司
主分类号: H01G9/20 分类号: H01G9/20;H01G9/042
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;穆德骏
地址: 中国台湾高*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明涉及一种用于制备电极的转印薄膜,其包含(a)底衬层及(b)至少一层涂料层,其位于该底衬层上,且包含粘结剂及填料,其中该涂料层具有约2至40约微米的厚度。本发明还涉及一种制备薄膜电极的方法,其包含(1)提供一基材;(2)将上述转印薄膜置于该基材上,其中该涂料层介于该底衬层与该基材之间;(3)使该涂料层转印于该基材上;及(4)移除该底衬层以形成薄膜电极。本发明还涉及一种由上述方法所制得的薄膜电极。
搜索关键词: 薄膜 电极 及其 制法
【主权项】:
一种用于制备电极的转印薄膜,其包含:(a)底衬层;及(b)至少一层涂料层,其位于该底衬层上,且包含粘结剂及填料,其中该涂料层具有约2至约40微米的厚度。
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