[发明专利]SRAM以及用于操作SRAM单元的方法有效

专利信息
申请号: 201310148777.8 申请日: 2013-04-25
公开(公告)号: CN103971731B 公开(公告)日: 2017-11-21
发明(设计)人: 廖忠志 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G11C11/413 分类号: G11C11/413
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 代理人: 章社杲,孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了用于操作SRAM单元的方法和包括静态随机存储器(SRAM)阵列的电路。SRAM单元位于SRAM阵列中,并且包括p阱区、位于p阱区的相对侧的第一n阱区和第二n阱区以及第一和第二传输门FinFET。第一传输门FinFET和第二传输门FinFET是p型FinFET。CVss线位于p阱区上方,CVss线平行于p阱区和第一n阱区之间的界面。位线和位线条位于CVss线的相对侧。CVdd线横跨SRAM单元。CVss控制电路连接至CVss线。CVss控制电路被配置为将第一CVss电压和第二CVss电压提供给CVss线,其中,第一CVss电压和第二CVss电压互不相同。
搜索关键词: 用于 操作 sram 单元 方法
【主权项】:
一种静态随机存储器电路,包括:静态随机存储器(SRAM)阵列;静态随机存储器单元,位于所述静态随机存储器阵列中,所述静态随机存储器单元包括:p阱区;第一n阱区和第二n阱区,位于所述p阱区的相对侧;和第一传输门鳍式场效应晶体管和第二传输门鳍式场效应晶体管,所述第一传输门鳍式场效应晶体管和所述第二传输门鳍式场效应晶体管是p型鳍式场效应晶体管;CVss线,位于所述p阱区上方,所述CVss线平行于所述p阱区和所述第一n阱区之间的界面;位线和位线条,位于所述CVss线的相对侧;CVdd线,横跨所述静态随机存储器单元;以及CVss控制电路,连接至所述CVss线,所述CVss控制电路被配置为将第一CVss电压和第二CVss电压提供给所述CVss线,所述第一CVss电压和所述第二CVss电压互不相同,其中,所述p阱区配置为在将所述第一CVss电压和所述第二CVss电压分别提供给所述CVss线时的不同操作期间,所述p阱区的电压分别不同于所述第一CVss电压和所述第二CVss电压。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310148777.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top