[发明专利]一种具有高储能密度的复合薄膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201310152902.2 申请日: 2013-04-27
公开(公告)号: CN103273704A 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 王金斌;陈婷;钟向丽;谭丛兵;廖敏 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: B32B18/00 分类号: B32B18/00;C04B35/48;C04B35/468;C04B35/622
代理公司: 长沙市融智专利事务所 43114 代理人: 魏娟
地址: 411105*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种具有高储能密度的复合薄膜及其制备方法,该复合薄膜底层和上层为锆酸铅基薄膜层;中间层为钛酸钡基二元固溶体薄膜层;制备方法是将锆酸铅基薄膜层原料和钛酸钡基二元固溶体薄膜层原料分别配制成锆酸铅基前驱体溶液和钛酸钡基二元固溶体前驱体溶液;用制得的锆酸铅基前驱体溶液通过甩胶旋涂在Pt(111)/Ti/SiO2/Si衬底上得到湿膜,再用得到的湿膜在氧气气氛下经过烘烤、热解、退火处理,即制得锆酸铅基薄膜层;再按照上述锆酸铅基薄膜层的制备过程在已制得的锆酸铅基薄膜层上依次制备钛酸钡基二元固溶体薄膜层和锆酸铅基薄膜层,即得;该复合薄膜具有高能量存储密度且耐极化疲劳的性能,制备方法简单易行、成本低,可工业化生产。
搜索关键词: 一种 具有 高储能 密度 复合 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有高储能密度的复合薄膜及其制备方法,其特征在于,底层和上层为锆酸铅基薄膜层;中间层为钛酸钡基二元固溶体薄膜层;所述的锆酸铅基薄膜层厚度为50~300nm,钛酸钡基二元固溶体薄膜层厚度为50~300nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湘潭大学,未经湘潭大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310152902.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top