[发明专利]半导体芯片的版图图层设计方法及其掩膜板

摘要

本发明提供一种半导体芯片的版图图层设计方法，包括：按照OPC的能力给出图层分类的标准和规则；确定子图层的层数；将需要进行相同OPC修正精度的版图置于同一子图层中，使整个版图分布在不同精度的子图层中，并进行相应精度的光学临近修正计算；将处理完成的多个所述子图层整合形成所需版图的光掩膜数据。本发明还提供一种利用半导体芯片版图图层设计方法的掩膜板。本发明提供的半导体芯片的版图图层设计方法，只需要对不同子图层单独进行不同精度级别的OPC运算，可以有效地减少计算量以及图形面积，提高计算效率，提高运算服务器的工作效率和缩短产品的出版周期。

主权项

一种半导体芯片的版图图层设计方法，其特征在于，包括：按照OPC的能力给出图层分类的标准和规则；确定子图层的层数；将需要进行相同OPC修正精度的版图置于同一子图层中，使整个版图分布在不同精度的子图层中，并进行相应精度的光学临近修正计算；将处理完成的多个所述子图层整合形成所需版图的光掩膜数据。