[发明专利]发光元件的制造方法及成膜装置在审
| 申请号： | 201310159721.2 | 申请日： | 2013-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN103382545A | 公开（公告）日： | 2013-11-06 |
| 发明（设计）人： | 横山浩平;池田寿雄;平佐真一;神保安弘;高濑奈津子 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54;H01L51/56 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 刘倜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的之一是提供一种可靠性高的有机EL元件。本发明的目的之一是提供一种能够制造可靠性高的有机EL元件的成膜装置。在进行排气及使用质谱仪对成膜室内的水分压进行测量的同时进行如下步骤：在减压下的成膜室内加热成膜材料而使其汽化的第一工序；以及在成膜室内形成包括在EL层中的层的第二工序，其中，在开始第二工序时，水分压小于第一工序中的水分压的平均值。或者，成膜装置所具备的成膜室包括成膜材料室并连接于排气机构。该成膜材料室利用滑板阀与成膜室区分，包括具备加热机构的成膜材料保持部，并连接于质谱仪及排气机构。由于在成膜材料室内可以预先充分地去除包含在成膜材料中的水分等杂质，所以可以抑制来源于成膜材料的水分扩散到成膜室内。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 元件 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种发光元件的制造方法，包括如下步骤：在对室中的水分压进行测量的同时，在减压下使材料汽化而在所述室中的衬底上形成所述材料的层。
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