[发明专利]一种采用纳米技术修复岩层环境污染的装置及应用有效
| 申请号： | 201310168371.6 | 申请日： | 2013-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN104140153A | 公开（公告）日： | 2014-11-12 |
| 发明（设计）人： | 赵学民 | 申请（专利权）人： | 赵学民 |
| 主分类号： | C02F1/70 | 分类号： | C02F1/70;C02F1/72;C02F1/00;C02F3/00;B09C1/08;B09C1/10 |
| 代理公司： | 上海三和万国知识产权代理事务所(普通合伙) 31230 | 代理人： | 章鸣玉 |
| 地址： | 200063 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种采用纳米技术修复岩层环境污染的装置及应用，在注水井沿着地下水流流动的方向上间隔5～10m设置有抽水井，注水井与抽水井内设置有滤网，注水井与抽水井之间的地面上设置有一纳米气泡饱和溶液注入组件，该纳米气泡饱和溶液注入组件分别与的注水井与抽水井管路连接，通过纳米气泡饱和溶液对岩层环境污染进行处理。本发明成本较低，修复效果好，修复效率高，且处理彻底不形成二次污染，并能有效地去除地下水及其下饱和土壤区域的多种有机污染物以及重金属污染物，且只需开设相应数量的注水井和抽水井，配合一套或多套装置，就可应用于不同污染源，不同污染面积的，不同污染程度的，不同污染深度的岩层环境的土壤以及地下水污染处理领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 纳米技术 修复 岩层 环境污染 装置 应用 | ||
【主权项】：
一种采用纳米技术修复岩层环境污染的装置，包括注水井（1），其特征在于：所述的注水井（1）的数量为1～4个，注水井的深度为5～15米，且注水井在沿着地下水流流动的方向上间隔5～10m处设置有抽水井（2）；所述的注水井（1）与抽水井（2）之间的地面上设置有一纳米气泡饱和溶液注入组件（A），该纳米气泡饱和溶液注入组件分别与的注水井与抽水井管路连接；所述的注水井（1）与抽水井（2）内设置有滤网（B）。
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