[发明专利]一种制备低反射率金属薄膜的方法

摘要

本发明涉及一种制备低反射率金属薄膜的方法，特别涉及一种在光学玻璃表面制备低反射率薄膜的方法，适用于航天器用光学零件如码盘、光栅等所采用的低反射率薄膜的制备，属于薄膜制备技术领域。本发明的方法制备的金属薄膜的反射率低≤10%，能够作为制备码盘、柱面镜、光学入射缝板等光学零件的低反射率薄膜；在制备过程中使用了反应气体，使膜层含气，不易氧化，容易刻蚀。

主权项

一种制备低反射率金属薄膜的方法，其特征在于该方法的步骤为：1）按要求将石英玻璃基片加工成型，然后对石英玻璃基片进行清洗，最后将石英玻璃基片装入真空镀膜机的真空室中；2）在石英玻璃基片上用磁控溅射法制备低反射率薄膜，步骤为：（a）对真空镀膜机的真空室抽真空，并将石英玻璃基片加热至100℃‑130℃；（b）当真空镀膜机的真空室的真空度达到2×10‑3Pa以下时开始进行溅射蒸镀工作，步骤为：（ⅰ）将工作气体和反应气体充入真空镀膜机的真空室中，使真空镀膜机的真空室的压力为6×10‑1～8×10‑1Pa；所述的工作气体为氩气，反应气体为氧气或氮气，工作气体与反应气体的体积比为5‑6:1；（ⅱ）对金属靶进行蒸预溅射；（ⅲ）溅射金属薄膜，将溅射功率控制在300～400W的范围内，溅射速率控制在10～15nm/min的范围内；（ⅳ）金属薄膜厚度达到要求时结束溅射，完成低反射率金属薄膜的制备。