[发明专利]一种用于大面积纳米压印的自适应压印头

摘要

本发明公开了一种用于大面积纳米压印的自适应压印头，它包括一维位移平台、连接支架、连接板、弹簧、导柱，其中，一维位移平台的立板与连接支架相连接，弹簧一端置于连接支架底板凹槽中，另一端置于连接板的凹槽中，导柱穿过连接板、弹簧，并与连接支架底板连接。本发明具有结构简单、调整方便、成本低、适应性广和柔性高的优点。可应用于整片晶圆纳米压印、滚轮对滚轮型纳米压印，尤其适用于滚轮对平面型纳米压印。为大面积纳米压印光刻工艺和装备的开发提供一种有效的解决方案。

主权项

一种用于大面积纳米压印的自适应压印头，其特征是，包括：一维位移平台；一维位移平台与连接支架立板相连接，实现压印头沿Z向移动，对模具施加压印力以及模具和衬底之间间隙的调整；连接支架；所述连接支架包括立板、底板，所述立板和底板垂直连接，连接支架将一维位移平台、连接板、弹簧、导柱组成一个六自由度被动适应调整系统；连接板；连接板一面通过弹簧和导柱与连接支架的底板连接，另一面用以固定模具或者模具装置；弹簧；弹簧固定在连接支架底板和连接板之间，弹簧的刚度根据压印模具重量、间隙调整量和施加的压印力大小来确定；导柱；导柱穿过连接板、弹簧，并与连接支架底板固定，所述导柱一方面用于限制弹簧的横向变形，另一方面与连接支架底板和连接板共同承载模具和连接板自身的重力，消除这些重力对压印力的影响。