[发明专利]薄膜厚度的测试方法和装置有效
申请号: | 201310173164.X | 申请日: | 2013-05-10 |
公开(公告)号: | CN103278124A | 公开(公告)日: | 2013-09-04 |
发明(设计)人: | 王灿 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G01B21/08 | 分类号: | G01B21/08 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种薄膜厚度的测试方法和装置,涉及测试领域,能够在保证测试精度的同时,降低测量薄膜的厚度的成本。该薄膜厚度的测试方法包括:将测试掩膜覆盖在基板的表面上,所述测试掩膜具有多个镂空;对所述覆盖有测试掩膜的基板进行溅射镀膜;移除所述测试掩膜,利用探针法进行测量。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 厚度 测试 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种薄膜厚度的测试方法,其特征在于,包括:将测试掩膜覆盖在基板的表面上,所述测试掩膜具有多个镂空;对所述覆盖有测试掩膜的基板进行溅射镀膜;移除所述测试掩膜,利用探针法进行测量。
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