[发明专利]一种版图结构、暗像素结构及其形成方法

摘要

本发明提供一种版图结构、暗像素结构及其形成方法，该暗像素结构包括位于感光器件的上方两侧的接触孔，位于接触孔上方的第一金属层，位于第一金属层上方的通孔，以及通孔上方的第二金属层，第二金属层含有衬垫层，在第二金属层的衬垫层上方设有填充有金属的通孔槽，在通孔槽的上方设有带有开槽的顶层金属层，通孔槽位于开槽的下方的四周。本发明通过衬垫层将通孔槽的底部挡住，由于通孔槽内填充有金属以及衬垫层材料为金属，穿过开槽进入通孔槽的光线被通孔槽和第二金属层的衬垫层挡住，入射光不能进入感光器件，从而形成不漏光的暗像素。

主权项

一种形成暗像素结构的版图结构，其特征在于，包括：带有开槽图形的顶层金属层图案的第一版图，带有通孔槽图形的第二版图，带有第二金属层图形的第三版图，所述第一、第二和第三版图依次从上到下相互配合以形成暗像素结构的版图结构；其中，所述第一版图的开槽图形位于所述第二版图的通孔槽图形内边缘围成的图形的上方，所述第三版图的第二金属层图形位于所述第二版图的通孔槽图形的下方。