[发明专利]一种光阻涂布机在审
申请号: | 201310180667.X | 申请日: | 2013-05-15 |
公开(公告)号: | CN104162496A | 公开(公告)日: | 2014-11-26 |
发明(设计)人: | 吴韦良 | 申请(专利权)人: | 上海和辉光电有限公司 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B05C11/10 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
地址: | 201506 上海市金山区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种光阻涂布机,包括:一光刻胶喷嘴,一干涉条设置于所述光刻胶喷嘴的前方,一喷流回吸装置设置于所述干涉条的前方,所述喷流回吸装置包括空气驱动装置和喷流回吸主体;所述喷流回吸主体的上端与所述干涉条枢接;所述喷流回吸主体下端开口;所述喷流回吸主体包含喷流腔体和吸入腔体,所述喷流腔体和所述吸入腔体的底部均与空气连通,在所述空气驱动装置的驱动下,从所述喷流腔体喷流出的气体,所述吸入腔体吸入气体;所述喷流回吸主体的下端不与所述玻璃基板相接触。本发明通过喷流回吸装置的强力吸流,将掉落在玻璃基板上的颗粒物,同时通过另一吸流口将颗粒物吸入,以生成除了传感器和干涉条以外的第三道关卡,提高成品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 光阻涂布机 | ||
【主权项】:
一种光阻涂布机,包括:一光刻胶喷嘴(0),用于在一玻璃基板(3)上进行光阻涂布;一干涉条(2)设置于所述光刻胶喷嘴(0)的前方;其特征在于:一喷流回吸装置(4)设置于所述干涉条(2)的前方,所述喷流回吸装置(4)包括空气驱动装置和喷流回吸主体;所述喷流回吸主体的上端与所述干涉条(2)枢接;所述喷流回吸主体下端开口;所述喷流回吸主体包含喷流腔体(41)和吸入腔体(42),所述喷流腔体(41)和所述吸入腔体(42)的底部均与空气连通,在所述空气驱动装置的驱动下,从所述喷流腔体(41)喷流出的气体,所述吸入腔体(42)吸入气体;所述喷流回吸主体的下端不与所述玻璃基板(3)相接触。
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