[发明专利]高分子荷负电超滤膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201310184566.X | 申请日： | 2013-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN103223299A | 公开（公告）日： | 2013-07-31 |
| 发明（设计）人： | 张秋根;刘庆林;邓超;朱爱梅 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | B01D69/10 | 分类号： | B01D69/10;B01D71/68;B01D67/00 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005 *** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 高分子荷负电超滤膜及其制备方法，涉及膜分离技术领域。制备纳米线分散溶液；制备荷负电高分子材料稀溶液；将2～20mg/mL纳米线分散溶液过滤在大孔支撑层上，形成纳米线模板层；再过滤0.5～5mg/mL浓度为0.05～10mg/mL荷负电高分子稀溶液通过纳米线模板层，荷负电高分子将通过静电作用自组装于纳米线模板层外表面形成自组装层，纳米线模板溶解/移除形成荷负电介孔分离层，最终获得高分子荷负电超滤膜。制得的高分子荷负电超滤膜孔径小于10nm，分离层厚度在50～500nm范围内可调，具有渗透通量大、分离效率高、抗污染性好等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 高分子 负电 超滤膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
高分子荷负电超滤膜及其制备方法，其特征在于包括以下步骤：1）制备纳米线分散溶液；2）制备荷负电高分子材料稀溶液；3）将2～20mg/mL纳米线分散溶液过滤在大孔支撑层上，形成纳米线模板层；4）再过滤0.5～5mg/mL浓度为0.05～10mg/mL荷负电高分子稀溶液通过纳米线模板层，荷负电高分子将通过静电作用自组装于纳米线模板层外表面形成自组装层，纳米线模板溶解/移除形成荷负电介孔分离层，最终获得高分子荷负电超滤膜。
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