[发明专利]一种OGS电容式触摸屏的制作方法无效

专利信息
申请号: 201310185065.3 申请日: 2013-05-20
公开(公告)号: CN103324371A 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 周朝平;葛成成;肖新煌;林钟泉 申请(专利权)人: 晟光科技股份有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 233000 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种OGS电容触摸屏的制作方法,包括以下步骤:在ITO薄膜层上涂布光刻胶;对光刻胶曝光;对光刻胶显影并硬化;蚀刻ITO薄膜层;去除光刻胶;切割裂片;ACF贴附;FOG热压;电测。通过本发明的方法可以在制作ITO图形时,在AA区域不会出现两个电极之间相互短路的现象,提高生产效率,降低人工成本,打通制程上的瓶颈问题。
搜索关键词: 一种 ogs 电容 触摸屏 制作方法
【主权项】:
一种OGS电容式触摸屏的制作方法,其特征在于,具体包括以下步骤:(1)、在基板上真空溅射ITO薄膜层,真空度:0.01~0.5Pa,温度:220~350℃,ITO薄膜层的厚度5nm~25nm;(2)、涂布光刻胶,将真空溅射的ITO薄膜层覆盖,光刻胶的厚度1000~2000nm,均匀性10%以内,预烘温度:60~100℃;紫外光波长:365nm,光通量:100mj,距离基板的尺寸100微米;(3)、在光刻胶上光刻ITO电极图形,ITO电极图案的光罩是菲林或走线铬版,对光刻胶进行曝光,即在光刻胶上光刻电极图形,曝光条件为:紫外光波长:365nm,光通量:60~150mj,光罩距离基板的尺寸20微米~200微米;(4)、对光刻胶显影并硬化,形成电极图形,采用有机碱,浓度1~4%,或者NaOH,浓度0.1~0.8%,温度:20~40℃,时间20秒~300秒,硬化温度:80~120℃,时间20~50分钟;(5)、蚀刻ITO薄膜层,形成ITO薄膜层电极图形,蚀刻使用材料:HCL15%+HNO3 6%,温度:40~60℃,时间:300~500秒;(6)、去除光刻胶,形成ITO电极,使用材料:有机溶液(以二甘醇丁醚(85%)和已醇胺按(15%)),时间5分钟内,最后用纯水漂洗;(7)、将整张大块基板进行切割裂片,并做CNC得到设计需要的成品sensor;(8)、对切割裂片好的sensor进行ACF贴附,用ACF贴附机在sensor上均匀的黏上ACF,压力:0.10~0.13MPa,温度:80~120℃,时间:2~3秒;(9)、将已贴附ACF的sensor运用热压机与FPC进行热压操作,压力:0.16~0.23MPa,温度:200~250℃,时间:10~15秒;(10)、将热压好的成品运用电测软件和电测装置电测,判断是否为良品,并将良品进行装饰包装。
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