[发明专利]磁共振装置中成像磁场测量和校正的方法及系统有效
申请号: | 201310191003.3 | 申请日: | 2013-05-21 |
公开(公告)号: | CN104181480B | 公开(公告)日: | 2017-02-08 |
发明(设计)人: | 蔡昆玉;张卫国;张强 | 申请(专利权)人: | 上海联影医疗科技有限公司 |
主分类号: | G01R33/389 | 分类号: | G01R33/389;G01R33/58;G01R33/387;G01R33/385 |
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地址: | 201815 上海市嘉*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种磁共振装置中成像磁场测量和校正的方法及系统。方法包括提供成像磁场,成像磁场对待扫描对象进行扫描;采集与成像磁场相对应的信号;处理信号,获得实际磁场强度;基于实际磁场强度与目标磁场强度的偏差进行校正。系统包括磁组件,提供实现磁共振成像的成像磁场;采集单元,用于采集与成像磁场相对应的信号;处理单元,用于处理信号,获得实际磁场强度;校正单元,用于根据实际磁场强度与目标磁场强度的偏差进行校正;控制单元,与磁组件、采集单元、处理单元和校正单元相连,用于控制磁组件提供成像磁场,用于控制采集单元进行信号的采集,用于控制处理单元处理信号,还用于控制校正单元进行校正。本发明可提供高质量的磁共振图像。 | ||
搜索关键词: | 磁共振 装置 成像 磁场 测量 校正 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种磁共振装置中成像磁场测量和校正的方法,其特征在于,包括:提供成像磁场,所述成像磁场用于对待扫描对象进行扫描;采集与所述成像磁场相对应的信号;处理所述信号,获得实际磁场强度;基于所述实际磁场强度与目标磁场强度的偏差进行校正;提供成像磁场的步骤包括:通过磁共振装置的磁组件提供成像磁场;所述采集与所述成像磁场相对应的信号的步骤包括:提供测量射频信号以激发监测样本并产生与所述成像磁场相对应的测量磁共振信号,采集所述测量磁共振信号;所述处理所述信号,获得实际磁场强度的步骤包括:基于磁共振原理,根据测量磁共振信号获得实际磁场强度;所述基于所述实际磁场强度与目标磁场强度的偏差进行校正的步骤包括:基于实际磁场强度与目标磁场强度的偏差获得成像磁场校正量;根据成像磁场校正量获得所述磁组件的电流调整量;基于所述磁组件的电流调整量校正磁组件所提供的成像磁场;其中,所述实际磁场强度与目标磁场强度的偏差,经过运算能分为均匀项偏差、线性项偏差以及高阶项偏差。
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