[发明专利]通过剥脱产生和转印表面形态的方法

摘要

本发明涉及通过剥脱产生和转印表面形态的方法。在本公开中无需采用蚀刻工艺便可实现表面图形的产生或表面图形的复制。相反地，本公开中使用被称为剥脱的独特断裂模式来产生或复制表面图形。在表面图形产生的情况下，在应力源层中提供表面图形，然后执行剥脱。在表面图形复制的情况下，在基础衬底的表面内或表面上形成表面图形，然后施加应力源层。在施加应力源层之后，执行剥脱。利用剥脱产生或复制表面图形提供了低成本的用于表面图形产生或复制的方式。

主权项

一种产生表面图形的方法，包括：在基础衬底的顶上形成差别断裂产生应力源层，所述差别断裂产生应力源层具有在厚度或至少一个物理特性上的调制；以及从所述基础衬底剥脱材料层，其中来自所述基础衬底的所述材料层和所述基础衬底的剩余部分具有互补表面形态，所述互补表面形态追随所述差别断裂产生应力源层的在厚度或所述至少一个物理特性上的所述调制。