[发明专利]超声清洁方法以及超声清洁装置无效
| 申请号： | 201310193863.0 | 申请日： | 2013-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN103418575A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 内部真佐志;森良弘;榛原照男;久保悦子 | 申请（专利权）人： | 硅电子股份公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 过晓东;谭邦会 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明的主题是提供能够以稳定的方式得到高的颗粒去除率的超声清洁方法和超声清洁装置。解决问题的方法是一种超声清洁方法，用于在溶解有气体的液体中清洁待清洁的物体，所述方法用超声波辐照所述液体，并包括以下步骤：制备溶解有气体的液体(S10)。在施加超声波于液体的同时清洁待清洁的物体，以使相对于没有施加超声波的情况，其中溶解有气体的液体其折射率的空间变化率更大的区域出现在沿超声波行进的方向(S40)。 | ||
| 搜索关键词： | 超声 清洁 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
一种超声清洁方法，用于在溶解有气体的液体中清洁待清洁物体(W)，所述方法用超声波辐照所述液体，并包括以下步骤：‑制备溶解有所述气体的所述液体；以及‑在用超声波辐照所述液体的同时清洁待清洁的所述物体(W)，以使相对于没有施加超声波的情况，其中溶解有所述气体的所述液体其折射率的空间变化率更大的区域出现在沿超声波行进的方向。
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