[发明专利]滤光片的制备方法、滤光片及摄像头模组有效
| 申请号： | 201310201961.4 | 申请日： | 2013-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN103266300A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 刘燕妮;龚礼宗;简海亮 | 申请（专利权）人： | 南昌欧菲光电技术有限公司;南昌欧菲光科技有限公司;深圳欧菲光科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/24;G02B1/10;G02B5/20;G02B7/02;H04N5/225 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 邓云鹏 |
| 地址： | 330013 江西省南昌市南*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种滤光片的制备方法，包括以下步骤：提供具有滤光能力的基底；在所述基底的单侧或两侧交替蒸发氧化硅和氧化钛，并在蒸发过程中使用氩离子或氧离子冲击氧化硅或氧化钛的气体分子，通过沉淀得到具有交替堆积的氧化硅层和氧化钛层的滤光片。上述滤光片的制备方法中，使用氩离子或氧离子冲击氧化硅或氧化钛的气体分子，能够使气体分子获得更大的动能，从而获得致密度高的镀膜层，从而提高滤光片的耐温能力。此外，还提供一种使用由上述制备方法制得的滤光片的摄像头模组，该摄像头模组可以在组装镜头之前进行SMT，应用范围较广。 | ||
| 搜索关键词： | 滤光 制备 方法 摄像头 模组 | ||
【主权项】：
一种滤光片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：提供具有滤光能力的基底；在所述基底的单侧或两侧交替蒸发氧化硅和氧化钛，并在蒸发过程中使用氩离子或氧离子冲击氧化硅或氧化钛的气体分子，通过沉淀得到具有交替堆积的氧化硅层和氧化钛层的滤光片。
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