[发明专利]应用于阻变存储器的Al-W-O堆叠结构无效

专利信息
申请号: 201310204621.7 申请日: 2013-05-28
公开(公告)号: CN103268917A 公开(公告)日: 2013-08-28
发明(设计)人: 白越;吴明昊;吴华强;钱鹤 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;G11C13/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张大威
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 根据本发明实施例的应用于阻变存储器的Al-W-O堆叠结构,包括:钨下电极;形成在钨下电极之上的氧化钨层;形成在氧化钨层之上的氧化铝层;以及形成在氧化铝层之上的铝上电极。本发明利用铝、钨两种金属与氧离子结合的不同特性,得到的阻变存储器具有更稳定的性能,更低的功耗和更大的高低阻比值。
搜索关键词: 应用于 存储器 al 堆叠 结构
【主权项】:
一种应用于阻变存储器的Al‑W‑O堆叠结构,其特征在于,包括:钨下电极;形成在所述钨下电极之上的氧化钨层;形成在所述氧化钨层之上的氧化铝层;以及形成在氧化铝层之上的铝上电极。
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