[发明专利]应用于阻变存储器的Al-W-O堆叠结构无效
申请号: | 201310204621.7 | 申请日: | 2013-05-28 |
公开(公告)号: | CN103268917A | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 白越;吴明昊;吴华强;钱鹤 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;G11C13/00 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张大威 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 根据本发明实施例的应用于阻变存储器的Al-W-O堆叠结构,包括:钨下电极;形成在钨下电极之上的氧化钨层;形成在氧化钨层之上的氧化铝层;以及形成在氧化铝层之上的铝上电极。本发明利用铝、钨两种金属与氧离子结合的不同特性,得到的阻变存储器具有更稳定的性能,更低的功耗和更大的高低阻比值。 | ||
搜索关键词: | 应用于 存储器 al 堆叠 结构 | ||
【主权项】:
一种应用于阻变存储器的Al‑W‑O堆叠结构,其特征在于,包括:钨下电极;形成在所述钨下电极之上的氧化钨层;形成在所述氧化钨层之上的氧化铝层;以及形成在氧化铝层之上的铝上电极。
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