[发明专利]半导体器件扇出倒装芯片封装结构的制作方法有效

专利信息
申请号: 201310207422.1 申请日: 2013-05-29
公开(公告)号: CN103325692A 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 施建根;王小江;顾健 申请(专利权)人: 南通富士通微电子股份有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L21/60
代理公司: 北京市惠诚律师事务所 11353 代理人: 雷志刚;潘士霖
地址: 226006 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种半导体器件扇出倒装芯片封装结构的制作方法,包括以下步骤:制作半导体器件柱状凸点单体及再布线铜板,将半导体器件柱状凸点单体倒扣在再布线铜板上,然后回流;半导体器件柱状凸点单体的制作方法:在半导体芯片上形成电极;在半导体芯片和电极上覆盖钝化层;在钝化层上形成一层聚合物;再有选择的形成绝缘中空柱状件;在表面形成金属层;再形成光刻胶和开口;在绝缘中空柱状件中形成第一金属柱,形成第二金属柱;去除光刻胶和金属层;切割成单体。本发明制备的半导体器件扇出倒装芯片封装结构,能够缓解凸点结构和半导体芯片结合点处的应力,解决由于热膨胀不均匀容易引起电极断裂,导致半导体器件失效的问题。
搜索关键词: 半导体器件 倒装 芯片 封装 结构 制作方法
【主权项】:
一种半导体器件扇出倒装芯片封装结构的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:制作半导体器件柱状凸点单体及再布线铜板,将所述半导体器件柱状凸点单体倒装在再布线铜板上,然后回流实施树脂填充;所述半导体器件柱状凸点单体的制作方法:(1)在半导体芯片上形成电极;(2)在半导体芯片和电极上选择性的覆盖钝化层;(3)在钝化层上形成一层聚合物;(4)在钝化层上再有选择的形成绝缘中空柱状件;(5)在绝缘中空柱状件表面、电极表面以及半导体芯片表面形成金属层;(6)在金属层上形成光刻胶;(7)在光刻胶上通过光刻形成开口;(8)在绝缘中空柱状件中形成第一金属柱,在光刻胶开口形成第二金属柱;(9)去除绝缘中空柱状件外围的光刻胶和金属层;(10)切割成具有柱状凸点的半导体器件单体。
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