[发明专利]光学系统、曝光装置以及制造器件的方法有效
| 申请号： | 201310208070.1 | 申请日： | 2013-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN103454769A | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | 永井善之;宫崎恭一;安延蔵;川岛春名 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 孙蕾 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 沿着光学系统的光路按照第1光学元件、第2光学元件、第3光学元件以及第4光学元件的顺序配置第1光学元件、第2光学元件、第3光学元件以及第4光学元件，在上述第3光学元件与上述第4光学元件之间形成空间，上述光学系统具备把上述第1光学元件和上述第2光学元件之间的光路与上述空间分离的构件。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 曝光 装置 以及 制造 器件 方法 | ||
【主权项】：
一种光学系统，该光学系统沿着光路按照第1光学元件、第2光学元件、第3光学元件以及第4光学元件的顺序配置有第1光学元件、第2光学元件、第3光学元件以及第4光学元件，在上述第3光学元件与上述第4光学元件之间形成有空间，上述光学系统具备把上述第1光学元件和上述第2光学元件之间的光路与上述空间分离的构件。
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