[发明专利]曝光设备和曝光方法无效
| 申请号： | 201310210193.9 | 申请日： | 2013-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN103309172A | 公开（公告）日： | 2013-09-18 |
| 发明（设计）人： | 王灿;于剑伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种曝光设备和曝光方法，涉及光学领域，能够实现基板上的光刻胶的均匀曝光。该曝光设备，包括光源，还包括：位于所述光源下方的扩散片，所述扩散片靠近所述光源的一面为入光面，与所述入光面相对的一面为出光面；其中，所述光源发出的光自所述入光面进入所述扩散片，在所述扩散片内经过折射，所述光被扩散之后，自所述出光面的各处均匀出射。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光设备，包括光源，其特征在于，还包括：位于所述光源下方的扩散片，所述扩散片靠近所述光源的一面为入光面，与所述入光面相对的一面为出光面；其中，所述光源发出的光自所述入光面进入所述扩散片，在所述扩散片内经过折射，所述光被扩散之后，自所述出光面的各处均匀出射。
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