[发明专利]研磨液整理器无效
申请号: | 201310211072.6 | 申请日: | 2013-05-31 |
公开(公告)号: | CN103286676A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 王哲;文静;张彬;张传民;张旭升 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;林彦之 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种研磨液整理器,属于半导体技术领域。其包括整理器机械臂和研磨液机械臂,所述整理器机械臂和所述研磨液机械臂均具有非水平臂面,以确保所述整理器机械臂和所述研磨液机械臂无残留的纯水,所述研磨液机械臂用于在喷洒研磨液的过程中通过自身摆动对硅片进行研磨处理,所述整理器机械臂用于对硅片进行研磨后的平整化处理。在研磨液整理器中当在下一片硅片的研磨时,由于机械臂上无残留的纯水,避免了对研磨液进一步稀释,使研磨速度保持不变,确保研磨过程的成功并进一步避免器件产生诸如有源区损伤或平整度变差的情况,从而保证器件电性不受影响。 | ||
搜索关键词: | 研磨 整理 | ||
【主权项】:
一种研磨液整理器,其特征在于,包括整理器机械臂和研磨液机械臂,所述整理器机械臂和所述研磨液机械臂均具有非水平臂面,以确保所述整理器机械臂和所述研磨液机械臂无残留的纯水,所述研磨液机械臂用于在喷洒研磨液的过程中通过自身摆动对硅片进行研磨处理,所述整理器机械臂用于对硅片进行研磨后的平整化处理。
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