[发明专利]一种电子工业用硅酸钾溶液的生产方法无效

专利信息
申请号: 201310215776.0 申请日: 2013-06-03
公开(公告)号: CN103265045A 公开(公告)日: 2013-08-28
发明(设计)人: 田辉明 申请(专利权)人: 田辉明
主分类号: C01B33/32 分类号: C01B33/32
代理公司: 黄石市三益专利商标事务所 42109 代理人: 瞿晖
地址: 435300 湖北省黄*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种电子工业用硅酸钾溶液的生产方法,是用高纯超细硅微粉和氢氧化钾溶液为原料反应制得,具体是先将离子膜法生产的氢氧化钾溶液稀释至20~25%,搅拌升温至80℃,再缓慢加入高纯超细硅微粉,继续升温至95~100℃,保温搅拌1小时后,取样检测,调模,检测模数合格后,再用电子级纯水稀释至所需浓度,搅拌20分钟,即得到电子工业用硅酸钾溶液;本发明方法简单实用,快捷方便,节能环保,低碳清洁,对环境友好,产物硅酸钾溶液质量符合GB/T9394-1998标准要求。
搜索关键词: 一种 电子工业 硅酸 溶液 生产 方法
【主权项】:
一种电子工业用硅酸钾溶液的生产方法,要求其产物中硅酸钾的质量分数为28%±0.5%,硅酸钾中二氧化硅与氧化钾的物质的量之比,即模数n为3.40±0.03,其特征在于:是用高纯超细硅微粉和氢氧化钾溶液为原料反应制得,包括下述步骤:(1)根据所需生产的硅酸钾溶液的总质量,计算所需高纯超细硅微粉和氢氧化钾溶液的质量,计算依据:nSiO2 +  2KOH   =   K2O·nSiO2   +   H2O,其中n=3.40;根据计算结果,精确称取所需高纯超细硅微粉和氢氧化钾溶液;所述高纯超细硅微粉中SiO2≥99.98%,Fe≤2ppm,粒径为0.5~5微米;所述氢氧化钾溶液为离子膜法生产的质量分数为48%的氢氧化钾溶液;(2)将称好的氢氧化钾溶液加入带搅拌、加热和温控装置的以聚四氟乙烯材料做衬里的反应釜中,开启搅拌装置,用适量电子级纯水稀释氢氧化钾溶液至其质量分数为20%~25%;(3)开启加热、搅拌装置,使反应釜内温度达到80℃,保温,缓慢加入高纯超细硅微粉,加料完毕后,继续升温,至反应釜内温度达到95~100℃,保温反应1小时;(4)取样检测,根据二氧化硅含量和氧化钾的含量计算硅酸钾溶液的模数n,若n=3.40±0.03,则产品模数合格,根据硅酸钾的质量分数,加入适量电子级纯水稀释至产品中硅酸钾质量分数为28%,搅拌20分钟,即得;若n>3.43,进行下述步骤(5);若n<3.37,进行下述步骤(6);(5)若n>3.43,根据n值,计算所需补加氢氧化钾溶液的质量,加入所需氢氧化钾溶液搅拌20分钟,取样检测,重复步骤(4);(6)若n<3.37,根据n值,计算所需补加高纯超细硅微粉的质量,在搅拌下加入高纯超细硅微粉升温至95~100℃,保温反应30分钟,取样检测,重复步骤(4)。
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