[发明专利]抛光垫修整器及其制造方法、抛光垫修整装置及抛光系统在审
| 申请号： | 201310217161.1 | 申请日： | 2013-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN104209863A | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;大岩一彦;相原俊夫;潘杰;王学泽 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017;B24B53/12;B24B37/10 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张亚利;骆苏华 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市余姚*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种抛光垫修整器及其制造方法、抛光垫修整装置及抛光系统，修整器包括：研磨颗粒，其形状规则且为多面体；基体，具有研磨面，研磨面的表面粗糙度大小使得研磨面凹凸不平，研磨颗粒固结在研磨面上，至少部分研磨颗粒嵌入研磨面的凹部内；至少部分研磨颗粒的棱角背向研磨面。通过加大研磨面的表面粗糙度、并选用形状规则且为多面体的研磨颗粒，使得研磨颗粒嵌入研磨面的凹部内，且凹部内至少部分研磨颗粒的棱角背向研磨面，在对抛光垫进行修整时研磨颗粒的棱角朝向抛光垫，改善了研磨颗粒的切削研磨效果；另外，由于研磨颗粒的形状是规则的，故研磨颗粒的抗断裂强度高，可以大幅减少硅片因金刚石研磨颗粒破碎而被划伤的情形发生。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 修整 及其 制造 方法 装置 系统 | ||
【主权项】：
一种抛光垫修整器，其特征在于，包括：研磨颗粒，所述研磨颗粒形状规则且为多面体；基体，具有研磨面，所述研磨面的表面粗糙度大小使得所述研磨面凹凸不平，所述研磨颗粒固结在所述研磨面上，至少部分所述研磨颗粒嵌入研磨面的凹部内；凹部内至少部分研磨颗粒的棱角背向所述研磨面。
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