[发明专利]布局修改方法及系统有效
| 申请号： | 201310218309.3 | 申请日： | 2013-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN103605817A | 公开（公告）日： | 2014-02-26 |
| 发明（设计）人： | 李孟祥;许力中;杨士贤;余和哲;谭竞豪;王中兴 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种方法，该方法包括：提供存储先前下线的集成电路(IC)布局的至少一部分的局部网表的非易失性机器可读存储介质，该局部网表代表用于制造具有使IC满足第一规格值的IC布局的IC的光掩模组。计算机识别IC布局中多个第一器件的固有子器件，使得由第二器件代替第一器件的固有子器件在修改后的IC布局中满足不同于第一规格值的第二规格值。生成至少一个布局掩模，并且将该至少一个布局掩模存储在可被用于形成至少一个附加光掩模的工具访问的至少一个非易失性机器可读存储介质中，使得将光掩模组和至少一个附加掩模用于根据修改后的IC布局制造IC。本发明还提供了布局修改方法及系统。 | ||
| 搜索关键词： | 布局 修改 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：提供非易失性机器可读存储介质，所述非易失性机器可读存储介质存储先前下线的集成电路(IC)布局的至少一部分的局部网表，所述局部网表代表用于制造具有使IC满足第一规格值的IC布局的IC的光掩模组；通过计算机识别所述IC布局中的多个第一器件的固有子器件，使得通过第二器件代替所述第一器件的所述固有子器件在修改后的IC布局中满足不同于所述第一规格值的第二规格值；以及生成至少一个布局掩模并将所述至少一个布局掩模存储在可通过用于形成至少一个附加光掩模的工具访问的至少一个非易失性机器可读存储介质中，使得将所述光掩模组和所述至少一个附加光掩模用于根据所述修改后的IC布局制造IC。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310218309.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
