[发明专利]自适应光学设备、成像设备和自适应光学方法有效
| 申请号： | 201310219965.5 | 申请日： | 2010-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN103349542A | 公开（公告）日： | 2013-10-16 |
| 发明（设计）人： | 广濑太;齐藤贤一 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | A61B3/14 | 分类号： | A61B3/14;A61B3/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 陈华成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及自适应光学设备和包括该自适应光学设备的成像设备。自适应光学设备包括：光调制单元，其被配置为在与被检物光学共轭的位置处调制光的两个偏振分量中的每一个偏振分量，所述光由光源发射；以及照射单元，其被配置为用被光调制单元调制的光照射被检物。 | ||
| 搜索关键词： | 自适应 光学 设备 成像 方法 | ||
【主权项】：
一种自适应光学设备，包括：第一空间光调制单元，该第一空间光调制单元被配置为调制光的两个偏振分量中的一个偏振分量的相位，所述光由光源发射；第二空间光调制单元，该第二空间光调制单元被配置为调制所述两个偏振分量中的另一个偏振分量的相位；以及多个反射式光学部件，所述多个反射式光学部件被设置为使得第一空间光调制单元和第二空间光调制单元设置在光学共轭的位置处。
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