[发明专利]曝光设备和装置制造方法有效
| 申请号： | 201310222560.7 | 申请日： | 2013-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN103488053A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 远藤正俊 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 欧阳帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及曝光设备和装置制造方法。一种针对每个曝光区来对衬底执行曝光的曝光设备包括：台，被配置为在保持衬底时移动；测量装置，被配置为测量所述台的振动；以及控制器，所述控制器被配置为在第一衬底的曝光区的曝光时段期间由所述测量装置测量的所述台的振动超出容许范围时，改变在使第一衬底之后要曝光的第二衬底的位于与第一衬底的所述曝光区相同的位置处的曝光区曝光时的控制参数，以便提高曝光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种针对每个曝光区来对衬底执行曝光的曝光设备，所述曝光设备包括：台，被配置为在保持衬底时移动；测量装置，被配置为测量所述台的振动；以及控制器，所述控制器被配置为在第一衬底的曝光区的曝光时段期间由所述测量装置测量的所述台的振动超出容许范围时，改变在使第一衬底之后要曝光的第二衬底的位于与第一衬底的所述曝光区相同的位置处的曝光区曝光时的控制参数，以便提高曝光精度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310222560.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
