[发明专利]曝光装置及曝光方法无效
| 申请号： | 201310226565.7 | 申请日： | 2013-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN103488054A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 佐藤达弥;浦和宏;今吉孝二;安井亮辅 | 申请（专利权）人： | 株式会社有泽制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置及曝光方法。该曝光装置包括：输送部，其用来输送长条状的膜；曝光部，其用来隔着掩模对由所述输送部正在输送的所述膜进行曝光；及冷却部，其利用风冷或者液冷等对由所述曝光部正在进行曝光的所述膜进行冷却。其解决如下技术问题：在曝光区域中，由于正在输送的膜被逐渐加热，因此会在膜的上游侧与下游侧之间产生温度差。由此，在膜上形成褶皱，使曝光用的光无法以希望的角度照射膜表面。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其包括：输送部，其用来输送长条形的膜；曝光部，其用来隔着掩模对由所述输送部正在输送的所述膜进行曝光；及冷却部，其用来对由所述曝光部正在进行曝光的所述膜进行冷却。
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