[发明专利]一种膜层具有折射率非均匀性的激光减反膜设计方法

摘要

本发明属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种激光波长用减反射薄膜的设计方法。包括以下步骤：1)利用椭圆偏振仪测量H层和L层的折射率；2)在理想设定情况下计算H层和L层的物理厚度；3)设定H层的物理厚度空间为[(1-︱δH︱)dH，(1+︱δH︱)dH]，L层的物理厚度空间分别为[(1-︱δL︱)dL，(1+︱δL︱)dL]；4)将H层和L层进行均匀化分层；5)将H层和L层折射率按照设定的层数离散化；6)在H层和L层物理厚度空间矩阵化，根据沉积设备的控制精度确定步长；逐点计算物理厚度空间内的剩余反射率；7)在物理厚度矩阵空间内搜索确定剩余反射率最低点，其对应的H层和L层的物理厚度值即为设计的结果。

主权项

一种膜层具有折射率非均匀性的激光减反膜设计方法，激光减反膜主要包括基底、高折射率膜层即H层、低折射率膜层即L层，其特征在于:包括以下步骤：1)利用椭圆偏振仪测量H层和L层在激光波长点的折射率；测量H层和L层在激光波长点的折射率非均匀性δH和δL；测量H层和L层在近基底端和远基底端的折射率；2)假定膜层材料折射率均匀，在此理想设定情况下计算H层和L层的物理厚度，分别记为dH和dL；3)设定H层的物理厚度空间为[(1‑︱δH︱)dH，(1+︱δH︱)dH]，L层的物理厚度空间分别为[(1‑︱δL︱)dL，(1+︱δL︱)dL]；4)将H层和L层进行均匀化分层：将H层分为N层，N是与dH/2nm相邻的整数，N≥dH/2nm；将L层分为M层，M是与dH/2nm相邻的整数，M≥dL/2nm；5)将H层和L层折射率按照设定的层数离散化：根据步骤1）中测量的H层和L层在近基底端和远基底端的折射率和步骤4）中确定的层数，均匀化离散每层的折射率；6)在H层和L层物理厚度空间矩阵化，根据沉积设备的控制精度确定步长；逐点计算物理厚度空间内的剩余反射率；7)在物理厚度矩阵空间内搜索确定剩余反射率最低点，其对应的H层和L层的物理厚度值即为设计的结果。