[发明专利]包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统有效
| 申请号： | 201310236773.5 | 申请日： | 2004-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN103383528A | 公开（公告）日： | 2013-11-06 |
| 发明（设计）人： | 安德鲁·J·黑兹尔顿;迈克尔·瑟高 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 欧阳帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统。一种用于控制光学组件（16）与器件（30）之间间隙（246）中环境的环境系统（26）包括流体屏障（254）和沉浸流体系统（252）。流体屏障位于器件附近。沉浸流体系统输送充满间隙的沉浸流体。沉浸流体系统收集直接位于流体屏障与器件之间的沉浸流体。流体屏障可以包括位于器件附近的清除入口，并且沉浸流体系统可以包括与清除入口流体连通的低压源。流体屏障限制沉浸流体的任何蒸汽并且防止它干扰测量系统。另外，环境系统可以包括在流体屏障与器件之间引导轴承流体以相对于器件支撑流体屏障的轴承流体源。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 用于 沉浸 光刻 装置 真空 清除 环境系统 | ||
【主权项】：
一种用于透过充满空间中的水使晶片曝光的沉浸光刻装置，该装置包括：包括可移动且容纳该水而以该水充满该空间的环绕元件的系统；该晶片是在该环绕元件下方相对于该环绕元件移动的；该水是自该环绕元件和该晶片之间移除的。
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