[发明专利]一种靶材的刻蚀量测装置及量测方法有效
| 申请号： | 201310250728.5 | 申请日： | 2013-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN103322900A | 公开（公告）日： | 2013-09-25 |
| 发明（设计）人： | 傅品正;陈招睦 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B7/26 | 分类号： | G01B7/26 |
| 代理公司： | 广东广和律师事务所 44298 | 代理人： | 刘敏 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种靶材的刻蚀量测装置及量测方法。所述靶材的刻蚀量测装置包括导轨(400)、定位部件(600)及刻蚀深度量测部件(500)，所述刻蚀深度量测部件(500)以与所述导轨(400)相对移动的方式设置在所述导轨(400)上，所述定位部件(600)设置在所述导轨(400)的两侧以支撑所述导轨(400)。由此，通过定位部件将导轨固定在靶材的表面上方，并移动刻蚀深度量测部件以量测靶材的表面任意处的刻蚀深度。基于刻蚀深度量测部件的量测数据，对磁石进行调节以提高靶材的刻蚀深度的均匀度，从而提高靶材利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种靶材的刻蚀量测装置，其特征在于，所述靶材的刻蚀量测装置包括导轨(400)、定位部件(600)及刻蚀深度量测部件(500)，所述刻蚀深度量测部件(500)以与所述导轨(400)相对移动的方式设置在所述导轨(400)上，所述定位部件(600)设置在所述导轨(400)的两侧以支撑所述导轨(400)。
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